据上海临港消息，近日，闵行开发区临港园区企业拓荆科技上海二厂举行启用庆典并正式投产。拓荆科技成立于2010年4月，主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。拓荆主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备、次常压化学气相沉积(SACVD)设备、高密度等离子体化学气相沉积(HDPCVD)设备、超高深宽比沟槽填充（Flowable CVD）设备和三维集成 (W2W / D2W Hybrid Bonding) 设备以及相关量测设备等系列，产品主要应用于集成电路晶圆制造、 先进存储和先进封装、HBM、MEMS、Micro-LED 和 Micro-OLED 显示等高端技术领域。
据介绍，拓荆科技作为半导体薄膜沉积和三维集成设备的领军者，为行业发展开辟新的路径。拓荆科技上海二厂定位为高端的现代化半导体产业园区，其工程车间洁净度达到国内最高标准十级，在产业园区类项目中独树一帜。项目建成后，将成为临港新片区集成电路产业链的关键一环，为区域集成电路产业的集聚发展提供坚实的硬件支撑，助力打造完整的半导体产业生态。