光医疗是利用光学技术进行医学治疗和诊断的领域。LED在光医疗领域发挥着重要作用,被认为会成为光疗的主要光源,随着LED技术的不
2023年11月27-30日,第九届国际第三代半导体论坛(IFWS)第二十届中国国际半导体照明论坛(SSLCHINA)于厦门国际会议中心召开。
Micro-LED是未来显示技术最重要的发展方向之一,MicroLED技术具有响应时间快、亮度高、色彩饱和度高等优势,但是需要解决制造工
光作为一种天然能源,它不会对身体造成污染,更不会像药物一样对人体造成毒副作用,LED光源体积小、光效高、高光亮、光色纯、性
Mini/Micro-LED技术已经在显示技术领域取得了显著的进展。大屏幕显示、可穿戴设备和智能手机、汽车显示系统、AR(增强现实)和VR
随着技术的不断进步和应用领域的不断拓展,紫外LED的创新应用前景充满潜力,消毒和灭菌、固态照明、紫外光固化、生命科学和医学
9月19日,以半导体设备与新材料为主题的产学研对接会在北京大学东莞光电研究院(下称北大光电院)召开。来自激光器、Micro LED、
乘势而为 共议紫外LED产业新生态第三届紫外LED国际会议暨长治LED产业发展推进大会盛大开幕9月12日-14日,以构建紫外新兴业态、促
当前位置:首页资讯产业资讯 正文日程重磅出炉!第三届紫外LED国际会议暨长治LED产业发展推进大会将于9月12-14日召开发布日期:20
第三届紫外LED会议暨长治LED产业发展推进大会(下称会议)将于9月12-14日在长治滨湖文旅服务中心召开。
第三届紫外LED国际会议暨长治LED产业发展推进大会将于9月12-14日召开。紫外LED国际会议暨长治LED产业发展推进大会(下称会议)是
中国国家集成电路产业投资基金(简称大基金)持续减持回笼资金,日前减持A股LED芯片龙头企业三安光电股份,持股比例正式降低至5
以氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)等为代表的第三代先进半导体器件是全球智能、绿色、可持续发展的重要支撑力量,其在光电子,射频
第三届紫外LED国际会议暨LED产业发展推进大会(中国长治)将于9月5-7日召开。本届论坛由长治市人民政府、中关村半导体照明工程研发
显示产业是电子信息产业的重要组成部分,我国新型显示产业总投资已超过1.3万亿元,已成为全球最大的显示面板生产基地。当前Mini/
半导体产业网获悉:近日,在美国洛杉矶举办的全球最大显示展会SID Display Week 2023上,展示了厦门大学、厦门市未来显示技术研
相比于传统紫外光源,氮化物紫外光源具有绿色环保、小巧便携、易于集成、寿命长等优点。紫外线消杀的应用非常广泛,除了传统应用
近日,央视《焦点访谈》栏目播发专题报道《强强联合 补短锻长》,聚焦工信部新批复的国家石墨烯创新中心、国家虚拟现实创新中心
半导体发光器件是固态显示与照明技术的共同基础。近年来,随着人们对不同类型的发光器件的深入研究,新型显示与照明技术得到了相
作为第三代半导体应用的第一个突破口,半导体照明过去近20年的发展是由核心技术的不断进步和突破带动,边开花边结果,开启了一个
推荐
- 1
IFWS 2022前瞻:超宽禁带及其他新型半导体材料与器件技术分会日程公布
9817
- 2
众星云集!化合物半导体激光器技术分论坛最新日程出炉——IFWS&SSLCHINA2022前瞻
7221
- 3
27位演讲嘉宾公布!2024功率半导体器件与集成电路会议4月26-28日成都见!
3527
- 4
IFWS 2022前瞻:氮化物衬底材料生长与外延技术分会日程出炉
3465
- 5
年产4000万只光模块,华工科技光电子研创园一期投产
3265
- 6
总投资30亿美元,梧升半导体IDM项目签约
2825
- 7
济南宽禁带半导体小镇一期项目基本完成 未来将形成千亿级产业集群
2796
- 8
第三代半导体六英寸氮化镓项目落户广西桂林
2784
- 9
厦门科学技术奖重磅揭晓,12位科研人员获重大贡献奖、创新杰出人才奖
2707
热门
- 1
2025云南晶体大会前瞻|厦门大学卢卫芳:GaN/InGaN基核-壳纳米结构选区外延及其Micro-LED器件制备研究
107
- 2
沪硅产业宣布70亿元重大资产重组
135
- 3
2025(前湾)第三代半导体产业发展大会暨芯片器件及应用项目路演活动即将举办
156
- 4
会议通知 | 2025(前湾)第三代半导体产业发展大会
114
- 5
总投资35亿元,奥松半导体8英寸MEMS特色芯片IDM产业基地项目通线投产
85
- 6
2025云南晶体大会前瞻|云南师范大学郭杰:锗硫属化合物Ge-VIA(GeS/GeSe/GeTe)二维材料的电子结构和光学特性研究
67
- 7
2025云南晶体大会前瞻|天科合达刘春俊:大尺寸碳化硅衬底和外延产业进展
473
- 8
2025云南晶体大会前瞻|昆明云锗李宝学:大尺寸红外锗单晶的研究进展
35
- 9
2025云南晶体大会前瞻|鑫耀半导体韦华:VGF法磷化铟热场优化控制对单晶缺陷形成的影响
63